Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 1998-00-00 ОрганизацияJoint Research Center for Atom Technology (JRCAT), 1-1-4 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305, Japan *Angstrom Technology Partnership (ATP) $National Institute for Advanced Interdisciplinary Research (NAIR) -Department of Physical Chemistry, Center for M ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


On the transport properties of microcrystalline silicon at low temperatures
Zhou J.-H., Baranovskii S.D., Yamasaki S., Ikuta K., Kondo M., Matsuda A., Tanaka K.
Zhou J.-H., Baranovskii S.D., Yamasaki S., Ikuta K., Kondo M., Matsuda A., Tanaka K. On the transport properties of microcrystalline silicon at low temperatures // ФТП, 1998, том 32, выпуск 8, Стр. 905
Аннотация The dark and photoconductivity along with pulsed electron spin resonance have been measured over a wide temperature range with a high crystallinity hydrogenated microcrystalline silicon (mu c-Si : H) sample. The transport mechanism in mu c-Si : H is discussed based on these measurements. Striking similarities in the temperature dependences of the dark and photoconductivity between mu c-Si : H and some well studied materials, such as hydrogenated amorphous silicon, suggest that at low temperatures hopping of carriers between localized states dominates the transport properties of mu c-Si : H.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален