Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 1999-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Влияние термообработки нафотоэлектрические свойства фотоприемников наоснове Si(Zn)
Астрова Е.В., Воронков В.Б., Лебедев А.А., Лодыгин А.Н., Ременюк А.Д.
Астрова Е.В., Воронков В.Б., Лебедев А.А., Лодыгин А.Н., Ременюк А.Д. Влияние термообработки нафотоэлектрические свойства фотоприемников наоснове Si(Zn) // ФТП, 1999, том 33, выпуск 3, Стр. 362
Аннотация Установлено, что в дырочном кремнии, легированном цинком в высокой концентрации (NZn~2·1016 см3), в результате термообработки в диапазоне температур 450/650oC возникают неоднородности электропроводности, которые препятствуют устойчивой работе преобразователя изображения ионизационного типа. Их формирование приводит к сильному возрастанию фотопроводимости (до102раз), изменению ее спектральной характеристики, возникновению долговременной релаксации фототока и остаточной проводимости, появлению токовых шнуров. Наблюдаемые явления удается объяснить в рамках модели, основанной на пространственном разделении носителей, когда рекомбинации неравновесных дырок с отрицательно заряженными центрами цинка препятствуют потенциальные барьеры, образованные этими неоднородностями. Предполагается, что неоднородности потенциала в p-Si(Zn) возникают в результате перераспределения центров цинка в кристалле с образованием включений i-типа проводимости в p-матрице.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален