Профиль » Публикация
Опубликовано
1999-00-00
ОрганизацияФизико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Влияние термообработки нафотоэлектрические свойства фотоприемников наоснове Si(Zn)
Астрова Е.В., Воронков В.Б., Лебедев А.А., Лодыгин А.Н., Ременюк А.Д. Влияние термообработки нафотоэлектрические свойства фотоприемников наоснове Si(Zn) // ФТП, 1999, том 33, выпуск 3, Стр. 362
Аннотация
Установлено, что в дырочном кремнии, легированном цинком в высокой концентрации (NZn~2·1016 см3), в результате термообработки в диапазоне температур 450/650oC возникают неоднородности электропроводности, которые препятствуют устойчивой работе преобразователя изображения ионизационного типа. Их формирование приводит к сильному возрастанию фотопроводимости (до102раз), изменению ее спектральной характеристики, возникновению долговременной релаксации фототока и остаточной проводимости, появлению токовых шнуров. Наблюдаемые явления удается объяснить в рамках модели, основанной на пространственном разделении носителей, когда рекомбинации неравновесных дырок с отрицательно заряженными центрами цинка препятствуют потенциальные барьеры, образованные этими неоднородностями. Предполагается, что неоднородности потенциала в p-Si(Zn) возникают в результате перераспределения центров цинка в кристалле с образованием включений i-типа проводимости в p-матрице.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален