Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2000-00-00 ОрганизацияИнститут физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук, 630090 Новосибирск, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Фоточувствительность структур In--SiO2--Cd0.28Hg0.72Te с непрозрачным полевым электродом
Овсюк В.Н., Васильев В.В., Машуков Ю.П.
Овсюк В.Н., Васильев В.В., Машуков Ю.П. Фоточувствительность структур In--SiO2--Cd0.28Hg0.72Te с непрозрачным полевым электродом // ФТП, 2000, том 34, выпуск 7, Стр. 822
Аннотация Исследуется фотоэффект в МДП структуре на основе Cd0.28Hg0.72Te с низкотемпературным пиролитическим SiO2 и In толщиной 5000 Angstrem, площадью 0.5x0.5 мм. Для МДП структуры с непрозрачным полевым электродом наблюдаемый фотоэффект заключается в изменении емкости и высокочастотной проводимости МДП структуры, он определяется фотоносителями, образующимися вне МДП структуры и достигающими ее за счет диффузии или по поверхностному каналу. Это происходит, когда МДП структура находится в состоянии инверсии; при этом образуется вихревой электрический ток, который пересекает индуцированный p-n-переход и замыкается сам на себя на периферии МДП структуры. В работе считается, что этот ток и дополнительное напряжение на p-n-переходе связаны между собой формулой Шокли. Определены следующие параметры: beta--- коэффициент в формуле Шокли, характеризующий неидеальность p-n-перехода; R0A--- произведение сопротивления при нулевом смещении на площадь p-n-перехода; Delta S--- площадь сбора фотоносителей. Получено: beta=1.52; R0A=2.7·105 Ом·см2; Delta S соответствует полоске по периметру МДП структуры шириной 15 мкм. Исследуемая МДП структура рассмотрена как фотоприемник.

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален