Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2001-00-00 ОрганизацияМинский государственный медицинский институт (кафедра физики), 220116 Минск, Белоруссия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Колебательные "реакции" втермообрабатываемом кремнии сучастием фоновых примесей кислорода иуглерода

Лукьяница В.В.

Лукьяница В.В. Колебательные "реакции" втермообрабатываемом кремнии сучастием фоновых примесей кислорода иуглерода // ФТП, 2001, том 35, выпуск 5, Стр. 513

Аннотация Представлены результаты исследования влияния температуры термообработки кремния (винтервале 750-1100oC продолжительностью1 ч) на транспорт примесей кислорода и углерода между присутствующими в бездислокационных кристаллах n-Si примесно-дефектными скоплениями и матрицей кристалла. Выявленные немонотонные изменения концентраций кислорода и углерода в примесно-дефектных скоплениях интерпретированы как результат колебательных "реакций", проходящих в процессе аккомодации примесно-дефектных скоплений при изменении (увеличении) температуры кристалла. Оценены температурные границы таких колебательных "реакций".