Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2002-00-00 ОрганизацияСанкт-Петербургский государственный электротехнический университет, 197376 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Модель образования донорных центров вслоях кремния, имплантированных ионами эрбия икислорода
Александров О.В., Захарьин А.О.
Александров О.В., Захарьин А.О. Модель образования донорных центров вслоях кремния, имплантированных ионами эрбия икислорода // ФТП, 2002, том 36, выпуск 11, Стр. 1291
Аннотация Проведено моделирование образования донорных центров при отжиге слоев монокристаллического кремния FZ-Si (метод бестигельной зонной плавки) иCz-Si (метод Чохральского), имплантированных совместно ионами Er+ иO+. Решались численно диффузионно-кинетические уравнения, учитывающие образование эрбиевых донорных центров трех типов--- сучастием кислорода подложки или имплантированного кислорода, атакже собственных межузельных атомовI, образующихся при отжиге имплантационных нарушений, т. е. центров (Er--I), (Er--O) и(Er--O--I). Расчеты удовлетворительно описывают концентрационные профили донорных центров по глубине, атакже влияние кислорода подложки иимплантированного кислорода на зависимости коэффициента донорной активации эрбия от температуры отжига вдиапазоне 600--1200oC.
Ключевые слова публикации:
     

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален