Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2003-00-00 ОрганизацияИнститут физики полупроводников Национальной академии наук Украины, 03028 Киев, Украина ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Фазово-структурные превращения впленках SiOx впроцессе вакуумных термообработок

Лисовский И.П., Индутный И.З., Гненный Б.Н., Литвин П.М., Мазунов Д.О., Оберемок А.С., Сопинский Н.В., Шепелявый П.Е.

Лисовский И.П., Индутный И.З., Гненный Б.Н., Литвин П.М., Мазунов Д.О., Оберемок А.С., Сопинский Н.В., Шепелявый П.Е. Фазово-структурные превращения впленках SiOx впроцессе вакуумных термообработок // ФТП, 2003, том 37, выпуск 1, Стр. 98

Аннотация С использованием методов гравиметрии, инфракрасной спектроскопии, многоугловой эллипсометрии имикроскопии атомных сил проведено исследование термостимулированной трансформации структуры кремний-кислородной фазы вслоях SiOx, приводящей кобразованию нановключений кремния. Показано, что вакуумная термообработка приводит кувеличению концентрации кислородных мостиков вструктурной сетке окисла, окисел уплотняется, сглаживается рельеф его поверхности. Выделение фаз кремния идиоксида кремния происходит врезультате процесса перехода кислорода от слабо окисленных молекулярных кластеров (SiOSi3) ксильно окисленным (SiO3Si). Анализ эллипсометрических данных врамках модели эффективной среды позволил оценить доли выделившихся фаз кремния идиоксида кремния.