Профиль » Публикация
Опубликовано
2004-00-00
ОрганизацияФедеральное государственное унитарное предприятие Всероссийский научный центр \glqq Государственный оптический институт им.С.И.Вавилова\grqq, 199034 Санкт-Петербург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Компенсация доноров вобедненном слое кристалловCdF2 сбарьером Шоттки
Щеулин А.С., Купчиков А.К., Ангервакс А.Е., Рыскин А.И. Компенсация доноров вобедненном слое кристалловCdF2 сбарьером Шоттки // ФТП, 2004, том 38, выпуск 1, Стр. 72
Аннотация
Исследованы радиочастотный отклик, вольт-фарадные и вольт-амперные характеристики полупроводниковых кристалов n-типа CdF2 : In, CdF2 : Ga и CdF2 : Y с барьером Шоттки. Особенности указанных характеристик объяснены на основе предположения о транспорте заряда из металла в обедненный слой, обусловленном образованием в приконтактной области возбужденийCd0 за счет поставляемых металлом(Au) пар электронов. Эти возбуждения осуществляют компенсацию доноров в слое объемного заряда толщиной порядка микрометра, прилегающего к контакту.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален