Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2004-00-00 ОрганизацияФизико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия * Институт высокомолекулярных соединений Российской академии наук, 199004 Санкт-Петербург, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Токовая неустойчивость сS-образной вольт-амперной характеристикой вслоях металл-полимерного комплекса полиамидокислоты сTb+2

Лебедев Э.А., Гойхман М.Я., Цэндин К.Д., Подешво И.В., Теруков Е.И., Кудрявцев В.В.

Лебедев Э.А., Гойхман М.Я., Цэндин К.Д., Подешво И.В., Теруков Е.И., Кудрявцев В.В. Токовая неустойчивость сS-образной вольт-амперной характеристикой вслоях металл-полимерного комплекса полиамидокислоты сTb+2 // ФТП, 2004, том 38, выпуск 9, Стр. 1115

Аннотация Проявление токовой неустойчивости в виде S-образной вольт-амперной характеристики было обнаружено в тонких пленках металл-полимерного комплекса полиамидокислоты с Tb+2. Характеристики токовой неустойчивости сравнимы с характеристиками эффекта переключения в халькогенидных стеклообразных полупроводниках. Происхождение токовой неустойчивости в металл-полимерном комплексе может быть связано с электронно-тепловым переключением. Пороговое напряжение и ток в пленках толщиной ~ 0.1 мкм составляют 3--7 В и (2-1)· 10-2 A/см2 соответственно.