Профиль » Публикация
Опубликовано
2004-00-00
Организация$ Институт аналитического приборостроения Российской академии наук, 190103 Санкт-Петербург, Россия * Физико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Свойства нановискеров GaAs наповерхности GaAs(111)B, полученных комбинированным методом
Тонких А.А., Цырлин Г.Э., Самсоненко Ю.Б., Сошников И.П., Устинов В.М. Свойства нановискеров GaAs наповерхности GaAs(111)B, полученных комбинированным методом // ФТП, 2004, том 38, выпуск 10, Стр. 1256
Аннотация
Комбинированным методом вакуумного напыления и молекулярно-пучковой эпитаксии на подложках GaAs(111)B синтезированы массивы нитевидных кристаллов (вискеров)GaAs. Структурные свойства поверхности полученных образцов исследованы с помощью сканирующего электронного микроскопа. Обнаружено, что поверхностная плотность вискеров составляет величину (1-2)· 109 см-2. Характерные размеры вискеров: 30--150 нм (диаметр) и 300--800 нм (длина). Показана возможность управлять размерами вискеров путем изменения условий роста и толщины напыленной пленки золота.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален