Профиль » Публикация
Опубликовано
2005-00-00
ОрганизацияИнститут физики микроструктур Российской академии наук, 603950 Нижний Новгород, Россия * Институт прикладной физики Российской академии наук, 603000 Нижний Новгород, Россия
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Изучение свойств структур с нанокластерамиAl, внедренными вматрицу GaAs
Востоков Н.В., Гусев С.А., Данильцев В.М., Дроздов М.Н., Дроздов Ю.Н., Корытин А.И., Мурель А.В., Шашкин В.И. Изучение свойств структур с нанокластерамиAl, внедренными вматрицу GaAs // ФТП, 2005, том 39, выпуск 1, Стр. 92
Аннотация
Показана возможность формирования методом металлорганической газофазной эпитаксии искусственной среды, представляющей собой матрицу монокристаллического GaAs с внедренными наночастицамиAl. Проведены исследования ее электрических и оптических свойств.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален