Профиль » Публикация
Опубликовано
2005-00-00
ОрганизацияИнститут физики полупроводников им.В.Е.Лашкарева Национальной академии наук Украины, 03028 Киев, Украина * University of Arkansas, Departament of Physics, 72701 Arkansas, USA
ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"
Резонансное комбинационное рассеяние света и атомно-силовая микроскопия многослойных наноструктур InGaAs/GaAs с квантовыми точками
Валах М.Я., Стрельчук В.В., Коломыс А.Ф., Mazur Yu.I., Wang Z.M., Xiao M., Salamo G.J. Резонансное комбинационное рассеяние света и атомно-силовая микроскопия многослойных наноструктур InGaAs/GaAs с квантовыми точками // ФТП, 2005, том 39, выпуск 1, Стр. 140
Аннотация
Методами атомно-силовой микроскопии, фотолюминесценции и комбинационного рассеяния света исследован переход от двухмерного (2D) псевдоморфного роста к трехмерному (3D) (наноостровковому) в многослойных структурах InxGa1-xAs/GaAs, полученных молекулярно-лучевой эпитаксией. Номинальная концентрация In вInxGa1-xAs варьировалась от x=0.20 до0.50. Толщина осаждаемых слоев InxGa1-xAs иGaAs составляли 14 и 70 монослоев соответственно. Показано, что при данных толщинах переход2D--3D имеет место при x>= 0.27. Установлено, что формирование квантовых точек InxGa1-xAs (наноостровков) не сводится к классическому механизму Странского--Крастанова, а существенно модифицируется процессами вертикальной сегрегации атомов In и интердиффузии атомовGa. Врезультате InxGa1-xAs может моделироваться 2Dслоем с пониженной концентрацией In (x0.60). Для многослойных сруктур InxGa1-xAs можно реализовать латеральное выстраивание квантовых точек в цепочки в направлении[ 110] и улучшение однородности их размеров.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален