Профиль » Публикация

Аннотация Исследованы вольт-амперные характеристики тонкопленочных p-i-n- и pDiDn-струкутр, i-слой которых сформирован на основе гидрогенизированных аморфных сплавов a-Si1-xCx : H, а p- и n-слои представляют собой легированный a-Si : H. Для объяснения особенностей вольт-амперных характеристикI(V), а именно малых значений константыA в экспоненциальной зависимости тока от напряжения I прапорционально exp(AV), предложен механизм туннельной инжекции из n-слоя непосредственно в область локализованных состояний. Процесс туннелирования является многоступенчатым и в общих чертах подобен рекомбинационному току в гетеропереходах. Высокая плотность локализованных состояний в запрещенной зоне a-Si1-xCx : H вблизи зонного края (~1020-1021 см-3) и ее зависимость от состава позволяют получить соответствующее экспериментальному значение константыA и объяснить уменьшениеA с ростом содержания углерода в сплаве. При больших смещениях имеет место переход от монополярной инжекции к двойной и замещение безызлучательной рекомбинации на излучательную почти свободных электронов и дырок. Структуры с x=0.4-0.6 обнаруживали слабую электролюминесцению в видимом диапазоне, положение пика характеризуется стоксовским сдвигом, составляющим~0.25Eg i-слоя.