Профиль » Публикация
Опубликовано
2005-00-00
ОрганизацияМосковский государственный университет им. М.В. Ломоносова, 119992 Москва, Россия E-mail: khokhlov@mig.phys.msu.ru
ЖурналЖурнал "Физика Твердого Тела"
Рекомбинация напримесных центрах спеременной валентностью вэпитаксиальных слоях PbTe(Ga)
Акимов Б.А., Богоявленский В.А., Васильков В.А., Рябова Л.И., Хохлов Д.Р. Рекомбинация напримесных центрах спеременной валентностью вэпитаксиальных слоях PbTe(Ga) // ФТТ, 2005, том 47, выпуск 1, Стр. 160
Аннотация
Проведены исследования кинетики фотопроводимости в эпитаксиальных пленках PbTe(Ga), синтезированных методом \glqq горячей стенки\grqq. Обнаружено, что при низких температурах рекомбинация неравновесных фотовозбужденных электронов происходит в два этапа: после участка относительно быстрой релаксации следует задержанная фотопроводимость. Температура появления задержанной фотопроводимости возрастает при уменьшении толщины пленки. Скорость быстрого участка релаксации зависит от толщины пленки и минимальна в наиболее тонких слоях. В полуизолирующих пленках фотопроводимость всегда положительна, в то время как в образцах с более низким сопротивлением наблюдается сосуществование положительной и отрицательной фотопроводимости. Полученные данные обсуждаются в рамках модели, учитывающей возможность существования примесного атома галлия в различных зарядовых состояниях. Работа выполнена при частичной поддержке грантов Российского фонда фундаментальных исследований N 04-02-16497, 02-02-17057 и INTAS N 2001-0184.
Комментарии
Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален