Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:

Опубликовано 2004-00-00 ОрганизацияНаучно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им.Н.И.Лобачевского, 603950 Нижний Новгород, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"

Кэффекту больших доз при ионной имплантации кремния

Тетельбаум Д.И., Герасимов А.И.

Тетельбаум Д.И., Герасимов А.И. Кэффекту больших доз при ионной имплантации кремния // ФТП, 2004, том 38, выпуск 11, Стр. 1301

Аннотация Для случая ионной имплантации фосфором кремния выполнен ряд экспериментов с целью выяснения механизма \glqq эффекта больших доз\grqq. На основании экспериментальных данных сделан вывод, что данный эффект обусловлен ослаблением межатомных связей в сильно легированном фосфором аморфном кремнии и носит терморадиационно-стимулированный характер. Перерыв в облучении по достижении дозы аморфизации приводит к стабилизации аморфного состояния.