Профиль » Публикация

Поделиться публикацией:
Опубликовать в блог:
Опубликовано 2005-00-00 ОрганизацияРоссийский научный центр \glqq Курчатовский институт\grqq, 123182 Москва, Россия * Институт радиотехники и электроники Российской академии наук, 141120 Фрязино, Россия ЖурналЖурнал "Физика и Техника Полупроводников"


Неомическая прыжковая квазидвумерная проводимость икинетика ее релаксации
Аронзон Б.А., Ковалев Д.Ю., Рыльков В.В.
Аронзон Б.А., Ковалев Д.Ю., Рыльков В.В. Неомическая прыжковая квазидвумерная проводимость икинетика ее релаксации // ФТП, 2005, том 39, выпуск 7, Стр. 844
Аннотация Исследованы неомические свойства квазидвумерного канала прыжковой проводимости, формируемого при помощи эффекта поля, в слоях p-Si в области пересечения уровня Ферми с примесной зоной. Установлено, что зависимость электропроводностиsigma от продольного электрического поляE имеет пороговый характер и подчиняется закону: lnsigma(E) прапорционально E1/2. Температурная и полевая зависимости проводимости квазидвумерного канала хорошо объясняются представлениями о нелинейном экранировании и неомических свойствах неупорядоченных систем со случайным кулоновским потенциалом. Данный механизм нелинейности подтверждается особенностями мезоскопических флуктуаций недиагольнальной компоненты сопротивления, отражающими перестройку перколяционного кластера под действием продольного поля. Обнаружены долговременные релаксации проводимости при переходе от неомического режима к омическому, свидетельствующие о проявлении данной системой свойств электронного стекла и существенном изменении токовых путей в сильном электрическом поле.
Ключевые слова публикации:
     

Комментарии

Вам необходимо зайти или зарегистрироваться для комментирования
Этот комментарий был удален
Этот комментарий был удален